Verbundvorhaben CUVER "Prävention implantatassoziierter Infektionen mittels innovativer Beschichtung"; Teilvorhaben: Innovative Oberflächenmodifikation zur Vermeidung der Biofilmbildung

Abstract

In diesem Teilprojekt sollte der Prozess einer innovativen Oberflächenbeschichtung von anodisierten Titanimplantaten etabliert und optimiert werden. Die Beschichtung basiert auf dem von der DOT GmbH entwickelten Anodisierungsverfahren DOTIZE®, wodurch der auf dem Implantat befindliche dünne natürliche Oxidfilm in einem elektrolytischen Bad, das eine starke alkalische Lösung enthält, durch eine dickere Oxidschicht ersetzt wird. Die innovative Oberflächenmodifikation, welche im Rahmen dieses Teilprojekts etabliert und optimiert werden sollte, kennzeichnet sich durch die lokale und temporäre Freisetzung von Kupferionen, welche antimikrobiell wirken und somit die Anzahl von implantatassoziierten Infektionen reduzieren sollen. Darüber hinaus ist aufgrund der essenziellen Bedeutung von Kupfer für den Zellstoffwechsel im menschlichen Körper die Förderung der natürlichen Frakturheilung durch lokale Freisetzung von Kupferionen ein möglicher Wirkmechanismus - dieser besondere Effekt wird im Rahmen des Verbundprojekts CUVER erstmalig präklinisch in Klein- und Großtiermodellen untersucht.