Verbundprojekt: Hochintegrierte supraleitende Nanostrukturen für Quantentechnologien (SuperLSI); Teilvorhaben: Grundlagenforschung, Vorentwicklung und Demonstration für direktschreibende DUV Laser Lithografie

Abstract

Im Rahmen des Verbundprojekts SuperLSI wurden bei Heidelberg Instruments Mikrotechnik GmbH zwei DUV-Lithografiesysteme für Anwendungen in der Quantentechnologie realisiert. Die DUV-Testplattform basiert auf einem Einstrahlraster-Lithografiesystem und wurde für die Prozessentwicklung mit einer Wellenlänge von 266 nm am Kirchhoff-Institut für Physik der Universität Heidelberg genutzt. Als zweites System wurde ein deutlich leistungsfähigerer DUV-MLA-Demonstrator konzipiert, mit dem Ziel, Strukturgrößen von unter 200 nm bei gleichzeitig hohem Durchsatz zu erreichen. Trotz bedeutender technischer Fortschritte, insbesondere bei der Entwicklung hochauflösender Optiken, der Kalibrierung von Flächenmodulatoren und der Reduzierung von Verunreinigungen, verhinderten technische Einschränkungen des verwendeten Modulators eine vollständige Integration und Produktreife des Systems. Insgesamt konnte das Projekt jedoch die Machbarkeit moderner DUV-Lithografie für die Herstellung von Bauelementen der Quantentechnologie erfolgreich nachweisen und wichtige technologische Grundlagen für zukünftige Hochauflösungs-Lithografiesysteme schaffen.