Glasoberflächen im Hochvakuum
dc.bibliographicCitation.firstPage | 347 | |
dc.bibliographicCitation.journalTitle | Glastechnische Berichte | |
dc.bibliographicCitation.lastPage | 353 | |
dc.bibliographicCitation.volume | 25 | |
dc.contributor.author | Boettcher, Alfred | |
dc.date.accessioned | 2024-11-04T10:26:12Z | |
dc.date.available | 2024-11-04T10:26:12Z | |
dc.date.issued | 1952 | |
dc.description.abstract | Überblick über vakuumtechnisch interessierende Eigenschaften von Glasoberflächen, insbesondere ihre Gasabgabe unter verschiedenen Bedingungen. Auf der Basis der neuen Anschauungen von K. Fajans und W. A. Weyl über den Einfluss polarisierbarer Ionen auf die Beschaffenheit von Glasoberflächen werden ältere Untersuchungen gedeutet. Die Oberflächenreinigung durch Ionenbombardement für Zwecke der Vakuumbedampfung wird ausführlich beschrieben. | ger |
dc.description.version | publishedVersion | |
dc.identifier.uri | https://oa.tib.eu/renate/handle/123456789/17470 | |
dc.identifier.uri | https://doi.org/10.34657/16492 | |
dc.language.iso | ger | |
dc.publisher | Offenbach : Verlag der Deutschen Glastechnischen Gesellschaft | |
dc.relation.issn | 0017-1085 | |
dc.rights.license | CC BY 3.0 DE | |
dc.rights.uri | https://creativecommons.org/licenses/by/3.0/de/ | |
dc.subject.ddc | 660 | |
dc.title | Glasoberflächen im Hochvakuum | ger |
dc.type | Article | |
dc.type | Text | |
tib.accessRights | openAccess |
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