This document may be downloaded, read, stored and printed for your own use within the limits of § 53 UrhG but it may not be distributed via the internet or passed on to external parties.Dieses Dokument darf im Rahmen von § 53 UrhG zum eigenen Gebrauch kostenfrei heruntergeladen, gelesen, gespeichert und ausgedruckt, aber nicht im Internet bereitgestellt oder an Außenstehende weitergegeben werden.Wagner, GüntherDoerschel, J.Irmscher, K.Leitenberger, W.Lux, Krist B.Roßberg, M.2016-03-242019-06-282003https://oa.tib.eu/renate/handle/123456789/1053[no abstract available]ger620Technologie- und Verfahrensentwicklung zur Abscheidung von p-Siliziumkarbid nach dem Chemical Vapour Deposition (CVD)-Verfahren : AbschlußberichtReport