Dieses Dokument darf im Rahmen von § 53 UrhG zum eigenen Gebrauch kostenfrei heruntergeladen, gelesen, gespeichert und ausgedruckt, aber nicht im Internet bereitgestellt oder an Außenstehende weitergegeben werden.This document may be downloaded, read, stored and printed for your own use within the limits of § 53 UrhG but it may not be distributed via the internet or passed on to external parties.PDI2016-03-242019-06-282010https://oa.tib.eu/renate/handle/123456789/1130[no abstract available]ger620Schlussbericht zum Teilprojekt "Grundlagenuntersuchungen der MBE-Prozesse: MBE-Wachstum, Struktur und thermische Stabilität von Verbindungen und Heterostrukturen Seltener-Erd-Oxide auf Si" innerhalb des BMBF Verbundprojektes "Metall Gate Elektroden und epitaktische Oxide als Gate-Stacks für zukünftige CMOS-Logik- und Speichergenerationen" - MEGA EPOSReport