Statistics for Verbundprojekt: Metall-Gate-Elektroden und epitaktische Oxide als Gate-Stacks für zukünftige CMOS-Logik- und Speichergenerationen (MEGA EPOS), Teilvorhaben der IHP GmbH Frankfurt (Oder): Herstellung und Analyse alternativer dielektrischer Schichten für zukünftige CMOS-Bauelemente : Schlussbericht
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| Verbundprojekt: Metall-Gate-Elektroden und epitaktische Oxide als Gate-Stacks für zukünftige CMOS-Logik- und Speichergenerationen (MEGA EPOS), Teilvorhaben der IHP GmbH Frankfurt (Oder): Herstellung und Analyse alternativer dielektrischer Schichten für zukünftige CMOS-Bauelemente : Schlussbericht | 0 |
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