Elektronenmikroskopische Beobachtungen an Ultramikrotomschnitten von Fotochrom- und Kupferrubingläsern

dc.bibliographicCitation.firstPage139
dc.bibliographicCitation.journalTitleGlastechnische Berichte
dc.bibliographicCitation.lastPage141
dc.bibliographicCitation.volume42
dc.contributor.authorKrauth, Axel
dc.contributor.authorOel, Heribert J.
dc.date.accessioned2024-09-05T13:48:40Z
dc.date.available2024-09-05T13:48:40Z
dc.date.issued1969
dc.description.abstractSowohl beim Fotochromglas als auch beim Kupferrubinglas konnten die in der Glasmatrix dispergierten Metalle Silber und Kupfer mit Hilfe der Mikrotomtechnik sichtbar gemacht und identifiziert werden. Desweiteren wurde gezeigt, daß sich dünne Glasschnitte im Elektronenstrahl verändern. Dies kann sich sowohl als Phasentrennung als auch als Oberflächendiffusion der dispergierten Metallteilchen bemerkbar machen. Für die Oberflächendiffusion wurde das elektrostatische Feld, welches sich bei Elektronenbeschuß ausbildet, verantwortlich gemacht. Bei der Untersuchung von Dünnschnitten ist zu beachten, daß sich die Teilchengrößenverteilung der dispergierten Metalle durch solche Vorgänge zu größeren Werten hin verschiebt.ger
dc.description.versionpublishedVersion
dc.identifier.urihttps://oa.tib.eu/renate/handle/123456789/15637
dc.identifier.urihttps://doi.org/10.34657/14659
dc.language.isoger
dc.publisherOffenbach : Verlag der Deutschen Glastechnischen Gesellschaft
dc.relation.issn0017-1085
dc.rights.licenseCC BY 3.0 DE
dc.rights.urihttps://creativecommons.org/licenses/by/3.0/de/
dc.subject.ddc660
dc.titleElektronenmikroskopische Beobachtungen an Ultramikrotomschnitten von Fotochrom- und Kupferrubingläsernger
dc.typeArticle
dc.typeText
tib.accessRightsopenAccess
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