Behaviour of rf sputter deposited SiO2 and AI2O3 diffusion barriers on float glass at 300 °C in air

dc.bibliographicCitation.firstPage331
dc.bibliographicCitation.issue12
dc.bibliographicCitation.journalTitleGlastechnische Berichte
dc.bibliographicCitation.lastPage333
dc.bibliographicCitation.volume66
dc.contributor.authorChaissac, Martine
dc.contributor.authorClaus, Jürgen
dc.contributor.authorBorchardt, Günter
dc.contributor.authorSlowik, Jacek
dc.contributor.authorFrischat, Günther Heinz
dc.contributor.authorScherrer, Stanislas
dc.contributor.authorWeber, Sylvain
dc.date.accessioned2024-08-27T15:17:41Z
dc.date.available2024-08-27T15:17:41Z
dc.date.issued1993
dc.description.abstractIn order to study the resistance of high-frequency sputtered thin SiO<sub>2</sub> and AI<sub>2</sub>O<sub>3</sub> coatings on float glass to sodium diffusion, coated glasses were submitted to heat treatments in air. The element distribution in the coatings and in the substrates was measured with neutral primary beam-secondary ion mass spectrometry.eng
dc.description.abstractUm die sperrende Wirkung von hochfrequenzgesputterten dünnen SiO<sub>2</sub>- und Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-Schichten auf Floatglas hinsichtlich der Natriumdiffusion zu untersuchen, wurden beschichtete Gläser einer Wärmebehandlung an Luft unterzogen. Die Elementverteilung in den Schichten und in den Substraten wurde mit der Neutral-Teilchen-Sekundärionen-Massenspektrometrie gemessen.ger
dc.description.versionpublishedVersion
dc.identifier.urihttps://oa.tib.eu/renate/handle/123456789/14993
dc.identifier.urihttps://doi.org/10.34657/14015
dc.language.isoeng
dc.publisherOffenbach : Verlag der Deutschen Glastechnischen Gesellschaft
dc.relation.issn0017-1085
dc.rights.licenseCC BY 3.0 DE
dc.rights.urihttps://creativecommons.org/licenses/by/3.0/de/
dc.subject.ddc660
dc.titleBehaviour of rf sputter deposited SiO2 and AI2O3 diffusion barriers on float glass at 300 °C in aireng
dc.title.alternativeVerhalten mittels Hochfrequenz-Plasmazerstäubung hergestellter Diffusionssperrschichten aus SiO2 und AI2O3 auf Floatglas bei 300 °C in Luftger
dc.typeArticle
tib.accessRightsopenAccess

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