Blasenbildung in Glas bei Elektronenbestrahlung
dc.bibliographicCitation.firstPage | 10 | |
dc.bibliographicCitation.journalTitle | Glastechnische Berichte | |
dc.bibliographicCitation.lastPage | 12 | |
dc.bibliographicCitation.volume | 41 | |
dc.contributor.author | Dudek, Hans Joachim | |
dc.date.accessioned | 2024-09-05T14:02:04Z | |
dc.date.available | 2024-09-05T14:02:04Z | |
dc.date.issued | 1968 | |
dc.description.abstract | Tafelglas-Bruchflächen wurden mit licht- und elektronenmikroskopischen Mitteln (Rastermikroskop) nach Bestrahlung durch Elektronen bei 80 und 145 kV untersucht. Beobachtet wird die Bildung von Blasen im Glas. | ger |
dc.description.version | publishedVersion | |
dc.identifier.uri | https://oa.tib.eu/renate/handle/123456789/15693 | |
dc.identifier.uri | https://doi.org/10.34657/14715 | |
dc.language.iso | ger | |
dc.publisher | Offenbach : Verlag der Deutschen Glastechnischen Gesellschaft | |
dc.relation.issn | 0017-1085 | |
dc.rights.license | CC BY 3.0 DE | |
dc.rights.uri | https://creativecommons.org/licenses/by/3.0/de/ | |
dc.subject.ddc | 660 | |
dc.title | Blasenbildung in Glas bei Elektronenbestrahlung | ger |
dc.type | Article | |
dc.type | Text | |
tib.accessRights | openAccess |
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