Eine kernchemische Methode zur Untersuchung der Argon-, Krypton- und Xenon-Diffusion in Gläsern und Kieselglas

dc.bibliographicCitation.firstPage213
dc.bibliographicCitation.journalTitleGlastechnische Berichte
dc.bibliographicCitation.lastPage215
dc.bibliographicCitation.volume48
dc.contributor.authorFelix, Fred W.
dc.date.accessioned2025-01-14T09:34:29Z
dc.date.available2025-01-14T09:34:29Z
dc.date.issued1975
dc.description.abstractIn kalium- und uranhaltigen Gläsern bzw. uranhaltigem Kieselglas wurden auf kernchemischem Weg radioaktives Argon, Krypton und Xenon erzeugt. Die Entgasung der Glasproben wurde zwischen 400 und 700 °C und der Kieselgläser zwischen 1150 und 1700 °C verfolgt. Für die Gläser wurden Aktivierungsenthalpien für Gasdiffusion bestimmt: Argon: 1,7 eV; Krypton: 1,9 eV und Xenon: 3,3 eV. In Kieselglas ist die Diffusionsabgabe unterhalb der Meßgrenze. Durch Extrapolation läßt sich abschätzen, daß beim Transformationspunkt DKr ≈ Dxe ≤ 10¯¹⁴ cm² s¯¹ ist. A nuclear chemical method for the investigation of argon, krypton and xenon diffusion in glasses and vitreous silica Radioactive argon, krypton and xenon have been produced by a nuclear chemical method in glasses containing potassium and uranium, and in silica containing uranium. The ordinary glass samples were then degassed between 400 and 700 °C and the vitreous silica between 1150 and 1700 °C. The activation enthalpies for gas diffusion in the ordinary glasses were found to be: Argon 1,7 eV, krypton 1,9 eV, xenon 3,3 eV. In silica the release by diffusion was below the Limits of measurement. By extrapolation it was shown that DKr ≈ Dxe ≤ 10¯¹⁴ cm² s¯¹ at the transformation point. Méthode d'étude par la chimie nucléaire de la diffusion de l'argon, du crypton et du xenon dans les verres et la silice vitreuse De l'argon, du crypton et du xénon radioactifs sont produits par une méthode relevant de la chimie nucléaire dans des verres au potassium et à l'uranium et dans de la silice vitreuse renfermant de l'uranium. Le dégazage des échantillons de verre est suivi entre 400 et 700 °C, celui des échantillons de silice entre 1150 et 1700 °C. Les enthalpies d'activation de la diffusion gazeuse sont déterminées pour les verres: argon 1,7 eV, crypton 1,9 eV et xenon 3,3 eV. Dans la silice, la perte par diffusion se situe en deça de la limite de mesure. On estime par extrapolation qu'au point de transformation DKr ≈ Dxe ≤ 10¯¹⁴ cm² s¯¹ .ger
dc.description.versionpublishedVersion
dc.identifier.urihttps://oa.tib.eu/renate/handle/123456789/18123
dc.identifier.urihttps://doi.org/10.34657/17143
dc.language.isoger
dc.publisherOffenbach : Verlag der Deutschen Glastechnischen Gesellschaft
dc.relation.issn0017-1085
dc.rights.licenseCC BY 3.0 DE
dc.rights.urihttps://creativecommons.org/licenses/by/3.0/de/
dc.subject.ddc660
dc.titleEine kernchemische Methode zur Untersuchung der Argon-, Krypton- und Xenon-Diffusion in Gläsern und Kieselglasger
dc.typeArticle
dc.typeText
tib.accessRightsopenAccess
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