Reactive ion plating of optical films

Abstract

High quality dielectric films are required today for many interference optical applications and for planar wave guides in integrated optics. Many inorganic compounds, which are difficult to deposit by conventional techniques in form of well-adherent, dense, hard and stable low-loss films, are now routinely synthesized by reactive gas discharge plasma processes. A survey over such PVD coating technologies, particularly reactive ion plating, and on the resulting film properties is given in this paper.

Dünne dielektrische Schichten von hoher Qualität werden heute für viele interferenzoptische Anwendungen und für planare Lichtwellenleiter in der integrierten Optik benötigt. Viele anorganische Verbindungen, die mit konventionellen Techniken schwer als gut haftende, dichte, harte und stabile Schichten mit nur kleinen optischen Verlusten aufgebracht werden können, sind heute mit reaktiven Plasmaprozessen gut herstellbar geworden. Es wird ein Überblick über solche PVD-Verfahren, insbesondere das reaktive Ionenplattieren, gegeben. Die Eigenschaften so hergestellter Schichten werden mitgeteilt.