Teilprojektthema: Beschichtungstechnologie für EUV-Lithographiemasken im Verbundprojekt: Grundlagen der EUV-Lithographie: Beschichtung von EUV-Maskblanks : IOM-Abschlussbericht

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2005
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Hannover : Technische Informationsbibliothek (TIB)
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Rauschenbach, B. (2005). Teilprojektthema: Beschichtungstechnologie für EUV-Lithographiemasken im Verbundprojekt: Grundlagen der EUV-Lithographie: Beschichtung von EUV-Maskblanks : IOM-Abschlussbericht (Hannover : Technische Informationsbibliothek (TIB)). Hannover : Technische Informationsbibliothek (TIB). https://doi.org//10.2314/GBV:508905087
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