Hochstabile elektrische Funktionsschichten für miniaturisierte Chipbauelemente : IFW-Teilbericht für das Verbundvorhaben: Neue Keramik- und Dünnschichtwerkstoffe für miniaturisierte Chipbauelemente

dc.contributor.authorBrüstel, U.
dc.contributor.authorHeinrich, A.
dc.contributor.authorSchumann, J.
dc.contributor.authorVinzelberg, H.
dc.date.accessioned2016-03-24T17:38:16Z
dc.date.available2019-06-28T07:29:09Z
dc.date.issued1999
dc.description.abstract[no abstract available]eng
dc.description.versionpublishedVersioneng
dc.identifier.urihttps://doi.org/10.34657/4736
dc.identifier.urihttps://oa.tib.eu/renate/handle/123456789/1044
dc.language.isogereng
dc.publisherDresden : Leibniz-Institut für Festkörper- und Werkstoffforschungeng
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dc.subject.ddc620eng
dc.titleHochstabile elektrische Funktionsschichten für miniaturisierte Chipbauelemente : IFW-Teilbericht für das Verbundvorhaben: Neue Keramik- und Dünnschichtwerkstoffe für miniaturisierte Chipbauelementeeng
dc.typereporteng
dc.typeTexteng
tib.accessRightsopenAccesseng
wgl.contributorIFWDeng
wgl.subjectIngenieurwissenschafteneng
wgl.typeReport / Forschungsbericht / Arbeitspapiereng
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