Zur Messung von Dampfdruck und Verdampfungsgeschwindigkeit an glasbildenden Substanzen

Abstract

Im Anschluss an die Diskussion der physik. Zusammenhänge wird über ein Verfahren berichtet, welches die Messung kleiner Dampfdrucke an hochsiedenden Substanzen im Bereich zwischen 10⁻⁵ und etwa 10⁻¹ Torr gestattet. Nach der Beschreibung von Wirkungsweise und Aufbau der benutzten Messanordnung werden Ergebnisse mitgeteilt, die an einigen glastechnisch interessierenden Substanzen (SiO, B₂O₃, Na₃AlF₆ u. MgF₂) erhalten wurden.