Growth of graphene/hexagonal boron nitride heterostructures using molecular beam epitaxy
dc.contributor.author | Nakhaie, Siamak | |
dc.date.accessioned | 2019-03-16T02:56:42Z | |
dc.date.available | 2019-06-28T12:38:54Z | |
dc.date.issued | 2018 | |
dc.description.abstract | Zweidimensionale (2D) Materialien bieten eine Vielzahl von neuartigen Eigenschaften und sind aussichtsreich Kandidaten für ein breites Spektrum an Anwendungen. Da hexagonales Bornitrid (h-BN) für eine Integration in Heterostrukturen mit anderen 2D Materialien geeignet ist, erweckte dieses in letzter Zeit großes Interesse. Insbesondere van-der-Waals-Heterostrukturen, welche h-BN und Graphen verbinden, weisen viele potenzielle Vorteile auf, verbleiben in ihrer großflächigen Herstellung von kontinuierlichen Filmen allerdings problematisch. Diese Dissertation stellt eine Untersuchung betreffend des Wachstums von h-BN und vertikalen Heterostrukturen von Graphen und h-BN auf Ni-Substraten durch Molekularstrahlepitaxie (MBE) vor. Zuerst wurde das Wachstum von h-BN mittels elementarer B- und N-Quellen auf Ni als Wachstumssubstrat untersucht. Kristalline h-BN-Schichten konnten durch Raman-spektroskopie nachgewiesen werden. Wachstumsparameter für kontinuierliche und atomar dünne Schichten wurden erlangt. Das Keimbildungs- und Wachstumsverhalten so wie die strukturelle Güte von h-BN wurden mittels einer systemischen Veränderung der Wachstumstemperatur und -dauer untersucht. Die entsprechenden Beobachtungen wie der Änderungen der bevorzugten Keimbildungszentren, der Kristallgröße und der Bedeckung des h-BN wurden diskutiert. Ein Wachstum von großflächigen vertikalen h-BN/Graphen Heterostrukturen (h-BN auf Graphen) konnte mittels einem neuartigen, MBE-basierenden Verfahren demonstriert werden, welche es h-BN und Graphen jeweils erlaubt sich in der vorteilhaften Wachstumsumgebung, welche von Ni bereitgestellt wird, zu formen. In diesem Verfahren formt sich Graphen an der Schnittstelle von h-BN und Ni durch Präzipitation von zuvor in der Ni-Schicht eingebrachten C-Atomen. Schließlich konnte noch ein großflächiges Wachstum von Graphen/h-BN-Heterostrukturen (Graphen auf h-BN) durch das direkte abscheiden von C auf MBE-gewachsenen h-BN gezeigt werden. | eng |
dc.description.abstract | Two-dimensional (2D) materials offer a variety of novel properties and have shown great promise to be used in a wide range of applications. Recently, hexagonal boron nitride (h-BN) has attracted significant attention due to its suitability for integration into heterostructures with other 2D materials. In particular, van der Waals heterostructures combining h-BN and graphene offer many potential advantages, but remain difficult to produce as continuous films over large areas. This thesis presents an investigation regarding the growth of h-BN and vertical heterostructures of graphene and h-BN on Ni substrates using molecular beam epitaxy (MBE). The growth of h-BN from elemental sources of B and N was investigated initially by using Ni as the growth substrate. The presence of crystalline h-BN was confirmed using Raman spectroscopy. Growth parameters resulting in continuous and atomically thin h-BN films were obtained. By systematically varying the growth temperature and time the structural quality as well as the nucleation and growth behavior of h-BN was studied. Corresponding observations such as changes in preferred nucleation site, crystallite size, and coverage of h-BN were discussed. Growth of h-BN/graphene vertical heterostructures (h-BN on graphene) over large areas was demonstrated by employing a novel MBE-based technique, which allows both h-BN and graphene to form in the favorable growth environment provided by Ni. In this technique, graphene forms at the interface of h-BN/Ni via the precipitation of C atoms previously dissolved in the thin Ni film. No evidence for the formation of BCN alloy could be found. Additionally, the suitability of ultraviolet Raman spectroscopy for characterization of h-BN/graphene heterostructures was demonstrated. Finally, growth of large-area graphene/h-BN heterostructures (graphene on h-BN) was demonstrated via the direct deposition of C on top of MBE-grown h-BN. | eng |
dc.description.version | publishedVersion | eng |
dc.format | application/pdf | |
dc.identifier.uri | https://doi.org/10.34657/1548 | |
dc.identifier.uri | https://oa.tib.eu/renate/handle/123456789/4123 | |
dc.language.iso | eng | eng |
dc.publisher | Berlin : Humboldt-Universität zu Berlin | eng |
dc.relation.doi | https://doi.org/10.18452/19190 | |
dc.rights.license | CC BY-NC-SA 3.0 DE | eng |
dc.rights.uri | https://creativecommons.org/licenses/by-nc-sa/3.0/de/ | eng |
dc.subject.ddc | 530 | eng |
dc.subject.other | Bornitrid | eng |
dc.subject.other | h-BN | eng |
dc.subject.other | Graphen | eng |
dc.subject.other | Heterostrukturen | eng |
dc.subject.other | Synthese | eng |
dc.subject.other | Synthese | eng |
dc.subject.other | Molekularstrahlepitaxie | eng |
dc.subject.other | MBE | eng |
dc.subject.other | hexagonal boron nitride | eng |
dc.subject.other | graphene | eng |
dc.subject.other | heterostructures | eng |
dc.subject.other | synthesis | eng |
dc.subject.other | molecular beam epitaxy | eng |
dc.title | Growth of graphene/hexagonal boron nitride heterostructures using molecular beam epitaxy | eng |
dc.type | DoctoralThesis | eng |
dc.type | Text | eng |
tib.accessRights | openAccess | eng |
wgl.contributor | PDI | eng |
wgl.subject | Physik | eng |
wgl.type | Hochschulschrift | eng |
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