MBE von kristallinen Gate-Dielektrika und Grenzflächen-Engineering : Schlussbericht zum Teilprojekt innerhalb des bmb+f Verbundprojektes "Kristalline Gate-Stacks für sub 100nm CMOS-Transistoren auf FD-SOI" - KrisMOS
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2007
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Hannover : Technische Informationsbibliothek (TIB)
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Braun, W. (2007). MBE von kristallinen Gate-Dielektrika und Grenzflächen-Engineering : Schlussbericht zum Teilprojekt innerhalb des bmb+f Verbundprojektes “Kristalline Gate-Stacks für sub 100nm CMOS-Transistoren auf FD-SOI” - KrisMOS. Hannover : Technische Informationsbibliothek (TIB). https://doi.org//10.2314/GBV:530682826
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