Reaktionsverhalten und Glasbildung in binären und ternären Sulfid-Oxyd-Systemen

Abstract

In den binären Systemen Na2S-SiO2, Na2S-B2O3, Na2S-As2O3, Na2S2-As2O3 wurden die Glasbildungsbereiche und ihr Lösungsvermögen für Kalk bestimmt. Die im System Na2S-SiO2 auftretenden Einschmelzverluste sind durch eine Bildung von Siliciumdisulfid bedingt, die Drucke dieser Reaktion wurden gemessen. Durch Messung des Röntgenverhaltens und der Einschmelzwärmen konnte gezeigt werden, daß in den Gläsern dieser Systeme echte Thiosilikate bzw. -Borate vorliegen. Im System Na2S-As2O3 bilden sich kristalline Thioverbindungen.