Elektronen- und interferenzmikroskopische Untersuchungen zur Oberflächenrauhigkeit von diaplastgeschliffenem Glas
dc.bibliographicCitation.firstPage | 425 | |
dc.bibliographicCitation.journalTitle | Glastechnische Berichte | |
dc.bibliographicCitation.lastPage | 431 | |
dc.bibliographicCitation.volume | 37 | |
dc.contributor.author | Peter, Klaus | |
dc.date.accessioned | 2024-09-05T15:24:40Z | |
dc.date.available | 2024-09-05T15:24:40Z | |
dc.date.issued | 1964 | |
dc.description.abstract | Im üblichen Polierprozeß von Glas spielen sowohl mechanisch-physikalische als auch chemische Vorgänge eine Rolle. Um den chemischen Anteil weitgehend auszuschalten, wurde mit Diamantkörnern in Methylalkohol als Poliermittel unter ähnlichen Bedingungen gearbeitet, wie sie beim Polieren mit Polierrot gebräuchlich sind. Die mit der feinsten Diamantkörnung (0,25 μm) erhältlichen Glasoberflächen zeigten noch mikroplastische Spuren, die bei einer Polierrot-Politur nicht mehr auftreten. Die Tiefe der verbliebenen Gräben liegt jedoch unter 150 Å, so daß für viele Zwecke eine ausreichende Glättung der Oberfläche erzielt werden kann. | ger |
dc.description.version | publishedVersion | |
dc.identifier.uri | https://oa.tib.eu/renate/handle/123456789/15939 | |
dc.identifier.uri | https://doi.org/10.34657/14961 | |
dc.language.iso | ger | |
dc.publisher | Offenbach : Verlag der Deutschen Glastechnischen Gesellschaft | |
dc.relation.issn | 0017-1085 | |
dc.rights.license | CC BY 3.0 DE | |
dc.rights.uri | https://creativecommons.org/licenses/by/3.0/de/ | |
dc.subject.ddc | 660 | |
dc.title | Elektronen- und interferenzmikroskopische Untersuchungen zur Oberflächenrauhigkeit von diaplastgeschliffenem Glas | ger |
dc.type | Article | |
dc.type | Text | |
tib.accessRights | openAccess |
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