Elektronen- und interferenzmikroskopische Untersuchungen zur Oberflächenrauhigkeit von diaplastgeschliffenem Glas

dc.bibliographicCitation.firstPage425
dc.bibliographicCitation.journalTitleGlastechnische Berichte
dc.bibliographicCitation.lastPage431
dc.bibliographicCitation.volume37
dc.contributor.authorPeter, Klaus
dc.date.accessioned2024-09-05T15:24:40Z
dc.date.available2024-09-05T15:24:40Z
dc.date.issued1964
dc.description.abstractIm üblichen Polierprozeß von Glas spielen sowohl mechanisch-physikalische als auch chemische Vorgänge eine Rolle. Um den chemischen Anteil weitgehend auszuschalten, wurde mit Diamantkörnern in Methylalkohol als Poliermittel unter ähnlichen Bedingungen gearbeitet, wie sie beim Polieren mit Polierrot gebräuchlich sind. Die mit der feinsten Diamantkörnung (0,25 μm) erhältlichen Glasoberflächen zeigten noch mikroplastische Spuren, die bei einer Polierrot-Politur nicht mehr auftreten. Die Tiefe der verbliebenen Gräben liegt jedoch unter 150 Å, so daß für viele Zwecke eine ausreichende Glättung der Oberfläche erzielt werden kann.ger
dc.description.versionpublishedVersion
dc.identifier.urihttps://oa.tib.eu/renate/handle/123456789/15939
dc.identifier.urihttps://doi.org/10.34657/14961
dc.language.isoger
dc.publisherOffenbach : Verlag der Deutschen Glastechnischen Gesellschaft
dc.relation.issn0017-1085
dc.rights.licenseCC BY 3.0 DE
dc.rights.urihttps://creativecommons.org/licenses/by/3.0/de/
dc.subject.ddc660
dc.titleElektronen- und interferenzmikroskopische Untersuchungen zur Oberflächenrauhigkeit von diaplastgeschliffenem Glasger
dc.typeArticle
dc.typeText
tib.accessRightsopenAccess
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