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Abscheidung titan-sauerstoff-stickstoff-haltiger Schichten im Plasma CVD Prozess durch Implementierung einer metall-organischen Vorstufe
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Saarbrücken : Universität des Saarlandes
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Die Arbeit beinhaltet die Abscheidung von Ti-O-N Schichten in einem PACVD Prozess mittels Titan-iso-propylat als metall-organische Vorstufe. Nach Variation der Prozessparameter Temperatur, Plasmaleistung und Gaszusammensetzung wurde die Schichtcharakteristik bezüglich Morphologie, Mikrostruktur und chemischer Zusammensetzung beschrieben und durch die vorliegenden Rahmenbedingungen erklärt. Insbesondere dem Naturell des kalten Plasmas ist die Ausbildung eines nanostrukturierten Schichtaufbaus bei Temperaturen unter 300°C zuzuschreiben, der als nanokristallin-amorpher Komposit bezeichnet wurde. Diese zwei-phasige Mikrostruktur spiegelte sich insbesondere in den mechanischen Schichteigenschaften Härte und E-Modul wider.
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DoctoralThesis
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