Abscheidung titan-sauerstoff-stickstoff-haltiger Schichten im Plasma CVD Prozess durch Implementierung einer metall-organischen Vorstufe

dc.contributor.authorKuhn, Patrick
dc.date.accessioned2016-03-24T17:38:11Z
dc.date.available2019-06-28T07:29:08Z
dc.date.issued2007
dc.description.abstractDie Arbeit beinhaltet die Abscheidung von Ti-O-N Schichten in einem PACVD Prozess mittels Titan-iso-propylat als metall-organische Vorstufe. Nach Variation der Prozessparameter Temperatur, Plasmaleistung und Gaszusammensetzung wurde die Schichtcharakteristik bezüglich Morphologie, Mikrostruktur und chemischer Zusammensetzung beschrieben und durch die vorliegenden Rahmenbedingungen erklärt. Insbesondere dem Naturell des kalten Plasmas ist die Ausbildung eines nanostrukturierten Schichtaufbaus bei Temperaturen unter 300°C zuzuschreiben, der als nanokristallin-amorpher Komposit bezeichnet wurde. Diese zwei-phasige Mikrostruktur spiegelte sich insbesondere in den mechanischen Schichteigenschaften Härte und E-Modul wider.eng
dc.description.versionpublishedVersioneng
dc.identifier.urihttps://oa.tib.eu/renate/handle/123456789/1032
dc.language.isogereng
dc.publisherSaarbrücken : Universität des Saarlandeseng
dc.relation.urihttp://scidok.sulb.uni-saarland.de/volltexte/2007/1252/
dc.relation.uriurn:nbn:de:bsz:291-scidok-12529
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dc.subject.ddc620eng
dc.subject.otherPECVD-Verfahreneng
dc.subject.otherTitannitrideng
dc.subject.otherBeschichteneng
dc.subject.otherTitandioxideng
dc.subject.otherNanokristalleng
dc.titleAbscheidung titan-sauerstoff-stickstoff-haltiger Schichten im Plasma CVD Prozess durch Implementierung einer metall-organischen Vorstufeeng
dc.typeDoctoralThesiseng
dc.typeTexteng
tib.accessRightsopenAccesseng
wgl.contributorINMeng
wgl.subjectIngenieurwissenschafteneng
wgl.typeHochschulschrifteng
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