Electrical and mechanical properties of quenched SnO2 films on glass substrates

Abstract

SnO2 films have been prepared on glass substrates of different linear coefficients of expansion, from different tin compounds through a hydrolytic reaction by monoliquid Chemical Vapor Deposition (CVD) under simultaneous quenching. The electroconductivity of the semiconducting films was measured and found to be dependent upon the film-forming compound, the film growth rate and temperature, the hydrolytic reaction, intrinsic and thermal stress. The thermal stress is responsible for the observed differences in conductivity on glass substrates with different A values. Doping with antimony and fluor compounds led to significantly higher electroconductivities of the semiconducting SnO2 films. Bending strength measurements on SnO2-coated glass showed the existence of intrinsic stresses, both in substrate and film, which influenced the electrical properties of the film and the mechanical strength of the substrate. Contrary to conventional SnO2 film forming, followed by annealing, the bending strength of glass rises considerably if SnO2 films are applied by the CVD monoliquid method on soda—lime—silica glass. An additional strengthening effect is observed if organic tin compounds are used as film-forming agents. SnO2-Halbleiterschichten wurden auf Glassubstrate mit unterschiedlichen Ausdehnungskoeffizienten aus verschiedenen Zinnverbindungen durch eine hydrolytische Reaktion aufgebracht. Die Aufbringung erfolgte mit Hilfe des CVD (Chemical Vapor Deposition)-Verfahrens in einer einphasigen Flüssigkeit (= Monoliquid-CVD-Verfahren) unter gleichzeitiger Vorspannung von Substrat und Schicht. Die elektrische Leitfähigkeit der Halbleiterschichten wurde gemessen. Es wurde gefunden, daß sie abhängig vom Schichtbildner, seiner hydrolytischen Reaktion, der Geschwindigkeit der Schichtbildung und sowohl von der Eigenspannung als auch von der thermischen Spannung ist. Die thermische Spannung ist bestimmend für die beobachteten Unterschiede der elektrischen Leitfähigkeit auf Glassubstraten mit verschiedenen Ausdehnungskoeffizienten. Dotierungen mit Antimon- oder Fluorverbindungen führten zu deutlich erhöhten Leitfähigkeiten der Schichten. Biegefestigkeitsmessungen an SnO2-beschichteten Gläsern heßen sowohl in der Schicht als auch im Substrat Eigenspannungen erkennen, die die elektrischen Eigenschaften der Filme und die mechanische Festigkeit der Substrate beeinflußten. Im Gegensatz zur konventionellen spannungsfreien SnO2-Beschichtung wird die Biegefestigkeh des Substrates bei Kalk-Natrongläsern deutlich erhöht, wenn das Monoliquid-CVD-Verfahren angewendet wird. Bei Einsatz organischer Zinnverbindungen als Schichtbildner wird ein zusätlich verstärkender Effekt beobachtet.