Netzwerkfehler in kristallinischem und glasigem SiO₂

Abstract

Kristallinisches und glasiges SiO₂ enthalten praktisch immer Netzwerkfehler. Deren Konzentrationen sind aber oft so klein, dass sie mit chemisch-analytischen Methoden kaum nachgewiesen werden können. Es gibt Netzwerkfehler, die man ihrer Natur wegen überhaupt nicht auf diesem Wege nachweisen kann. Mit modernen physikalischen Methoden (dielektrischen Verlustmessungen bei niedrigen Temperaturen, paramagnetische Resonanzmessungen und optische Messungen) kann man nicht nur etwas über die Konzentrationen, sondern auch über die Art der Netzwerkfehler erkennnen. Durch Vergleich der Netzwerkfehler vor und nach Bestrahlung mit elektromagnetischen Wellen (kurzwelligem U. V., Röntgen- oder γ-Strahlung) oder Neutronen kann man sich eine Vorstellung machen, welche "Reaktionen" diese Strahlungen in kristallinischem und glasigem SiO₂ zustandebringen.