Abbau von SiO₂-Schlieren in Gläsern durch Diffusion und Strömung

dc.bibliographicCitation.firstPage	387
dc.bibliographicCitation.journalTitle	Glastechnische Berichte
dc.bibliographicCitation.lastPage	392
dc.bibliographicCitation.volume	35
dc.contributor.author	Becker, Hans
dc.date.accessioned	2025-01-13T11:06:51Z
dc.date.available	2025-01-13T11:06:51Z
dc.date.issued	1962
dc.description.abstract	Es wird eine Methode beschrieben, die gestattet, die Diffusionskoeffizienten von SiO₂-Schlieren im Glas auch bei hohen Temperaturen mit großer Genauigkeit zu bestimmen. Von einem Tafelglas werden die zwischen 1000 und 1400 °C errechneten Diffusionskoeffizienten von SiO₂-Schlieren mitgeteilt. Am Beispiel der Oberflächenströmung in einer Tafelglaswanne wird gezeigt, wie groß der Konzentrationsabbau von SiO₂-Schlieren bei gleichzeitiger Einwirkung von Strömung und Diffusion ist.	ger
dc.description.version	publishedVersion
dc.identifier.uri	https://oa.tib.eu/renate/handle/123456789/17991
dc.identifier.uri	https://doi.org/10.34657/17011
dc.language.iso	ger
dc.publisher	Offenbach : Verlag der Deutschen Glastechnischen Gesellschaft
dc.relation.issn	0017-1085
dc.rights.license	CC BY 3.0 DE
dc.rights.uri	https://creativecommons.org/licenses/by/3.0/de/
dc.subject.ddc	660
dc.title	Abbau von SiO₂-Schlieren in Gläsern durch Diffusion und Strömung	ger
dc.type	Article
dc.type	Text
tib.accessRights	openAccess

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