Das binäre Teilsystem BaO ∙ 2SiO2 - 2BaO ∙ 3SiO2
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Date
1971
Authors
Volume
44
Issue
Journal
Glastechnische Berichte
Series Titel
Book Title
Publisher
Offenbach : Verlag der Deutschen Glastechnischen Gesellschaft
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Abstract
Ein erweitertes Phasendiagramm des Teilsystems BaO ∙ 2 SiO2 - 2 BaO ∙ 3 SiO2 wird in Zusammenhang mit abweichenden Literaturdaten diskutiert. Die Verbindungen Hoch- und Tief-BaSi2O5, Ba3Si5O13, Hoch- und Tief-Ba5Si8O21 und Hoch- und Tief-Ba2Si3O8 werden durch Gitterkonstanten, Raumgruppe, Röntgenpulverdiagramme und Wärmeausdehnung charakterisiert. Ba3Si5O13 ist nur oberhalb 1300 °C stabil, Ba5Si8O21 zeigt eine reversible Umwandlung bei 1085 °C, Ba2Si3O8 eine reversible Umwandlung bei 1009 °C. Eine Mischkristallbildung der Phasen bei höheren Temperaturen wird an Hand der Ergebnisse von Gitterkonstantenverfeinerungen nicht für wahrscheinlich gehalten.
Description
Keywords
Citation
Oehlschlegel, G. (1971). Das binäre Teilsystem BaO ∙ 2SiO2 - 2BaO ∙ 3SiO2. Offenbach : Verlag der Deutschen Glastechnischen Gesellschaft.
License
CC BY 3.0 DE