Energie- und Teilcheneinstrom - Basisparameter der plasmagestützten Deposition optischer Schichten : Schlussbericht des Teilvorhabens: PluTO_PlasmaBasis im Verbundvorhaben: Plasma und Optische Technologien - PLUTO ; Berichtszeitraum: 01.05.2009 - 30.04.2014

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dc.contributor.authorFoest, Rüdiger
dc.contributor.authorHarhausen, Jens
dc.date.accessioned2016-03-24T17:36:54Z
dc.date.available2019-06-28T07:30:07Z
dc.date.issued2014
dc.description.abstract[no abstract available]eng
dc.description.versionpublishedVersioneng
dc.identifier.urihttps://oa.tib.eu/renate/handle/123456789/1270
dc.language.isogereng
dc.publisherHannover : Technische Informationsbibliothek (TIB)eng
dc.relation.doihttps://doi.org/10.2314/GBV:841277206
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dc.subject.ddc620eng
dc.subject.otherDünnschichtoptikeng
dc.subject.otherfunktionale Schichteneng
dc.subject.otherPlasmaquelleneng
dc.subject.otherIonenquelleneng
dc.subject.otherplasmaionengestützte Depositioneng
dc.subject.otherIonenstrahlzerstäubeneng
dc.subject.otherPlasmadiagnostikeng
dc.subject.otherPlasmacharakterisierungeng
dc.subject.otherPlasmamodellierungeng
dc.subject.otherthin film opticseng
dc.subject.otherfunctional coatingseng
dc.subject.otherplasma sourceseng
dc.subject.otherion sourceseng
dc.subject.otherplasma ion assisted depositioneng
dc.subject.otherion beam sputteringeng
dc.subject.otherplasma diagnosticseng
dc.subject.otherplasma characterisationeng
dc.subject.otherplasma modellingeng
dc.titleEnergie- und Teilcheneinstrom - Basisparameter der plasmagestützten Deposition optischer Schichten : Schlussbericht des Teilvorhabens: PluTO_PlasmaBasis im Verbundvorhaben: Plasma und Optische Technologien - PLUTO ; Berichtszeitraum: 01.05.2009 - 30.04.2014eng
dc.typeReporteng
dc.typeTexteng
tib.accessRightsopenAccesseng
wgl.contributorINPeng
wgl.subjectIngenieurwissenschafteneng
wgl.typeReport / Forschungsbericht / Arbeitspapiereng
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