GaN-Epitaxie, Prozesstechnologie und Aufbautechnik : Abschlussbericht ; Wachstumskern Berlin WideBaSe, Verbundprojekt 7: Hocheffiziente Leistungs-Mikrowellenverstärker und Oszillatoren, Teilprojekt 7.3: GaN-Epitaxie, Prozesstechnologie und Aufbautechnik ; Berichtslaufzeit: 01.07.2010 bis 31.12.2013

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2013
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Hannover : Technische Informationsbibliothek (TIB)
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