Energie- und Teilcheneinstrom - Basisparameter der plasmagestützten Deposition optischer Schichten : Schlussbericht des Teilvorhabens: PluTO_PlasmaBasis im Verbundvorhaben: Plasma und Optische Technologien - PLUTO ; Berichtszeitraum: 01.05.2009 - 30.04.2014
Loading...
Date
2014
Authors
Volume
Issue
Journal
Series Titel
Book Title
Publisher
Hannover : Technische Informationsbibliothek (TIB)
Link to publishers version
Abstract
[no abstract available]
Description
Keywords
Dünnschichtoptik, funktionale Schichten, Plasmaquellen, Ionenquellen, plasmaionengestützte Deposition, Ionenstrahlzerstäuben, Plasmadiagnostik, Plasmacharakterisierung, Plasmamodellierung, thin film optics, functional coatings, plasma sources, ion sources, plasma ion assisted deposition, ion beam sputtering, plasma diagnostics, plasma characterisation, plasma modelling
Citation
Foest, R., & Harhausen, J. (2014). Energie- und Teilcheneinstrom - Basisparameter der plasmagestützten Deposition optischer Schichten : Schlussbericht des Teilvorhabens: PluTO_PlasmaBasis im Verbundvorhaben: Plasma und Optische Technologien - PLUTO ; Berichtszeitraum: 01.05.2009 - 30.04.2014. Hannover : Technische Informationsbibliothek (TIB). https://doi.org//10.2314/GBV:841277206
Collections
License
This document may be downloaded, read, stored and printed for your own use within the limits of § 53 UrhG but it may not be distributed via the internet or passed on to external parties.
Dieses Dokument darf im Rahmen von § 53 UrhG zum eigenen Gebrauch kostenfrei heruntergeladen, gelesen, gespeichert und ausgedruckt, aber nicht im Internet bereitgestellt oder an Außenstehende weitergegeben werden.
Dieses Dokument darf im Rahmen von § 53 UrhG zum eigenen Gebrauch kostenfrei heruntergeladen, gelesen, gespeichert und ausgedruckt, aber nicht im Internet bereitgestellt oder an Außenstehende weitergegeben werden.